水平型离子溅射镀膜机

特点：

1、基板水平放置，垂直监控；

2、靶材左右移动，位置和速度可编程控制；

3、基板：12吋×1 或 6吋×4；

4、靶材：两靶，三靶或四靶可更换；

5、多光路监控。

6、无膜厚分布修正板

工艺参数：

一，真空系统

1、极限真空度：4.0×10-5Pa 

2、抽至10Pa所用时间：≦ 10 分钟

3、漏率： 3.0×10-5Pa m3/sec

二，控制精度

1、靶材旋转：0.005°

2、工件旋转: <1000RPM

3、编码器: 12000lines;480000Counts/rev

4、膜厚修正板：0.005°

5、挡板:  position switch

三，光学监控系统OMS

1、波长范围：380nm～1650nm

2、光源稳定性 :白光< 0.1%，激光< 0.02%

3、波长分辨率: 白光0.2nm，激光0.1nm

4、波长准确度: 白光0.2nm ，激光0.1nm